Une machine d'une rare complexité pour créer des microprocesseurs

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Fruit de 20 ans de recherche, la machine de lithographie EUV est la plus complexe au monde. Pour graver des puces de trois nanomètres, elle vaporise au laser des gouttes d'étain 50 000 fois par seconde, créant un plasma à 400 000 °C émettant une lumière extrême ultraviolette.

Seule ASML (Pays-Bas) fabrique ces monstres de 200 tonnes à 300 millions de dollars. Cette lumière (13,5 nm) est guidée par des miroirs Zeiss si parfaits que, s'ils faisaient la taille de la France, le plus gros défaut de surface ne dépasserait pas l'épaisseur d'un cheveu !


Commentaires préférés (3)

Il ne faut pas se sentir bête. Ce ne sont pas des génies qui imaginent. Ce sont des personnes brillantes, certes, mais il ne faut pas voir cette réalisation comme un processus unique, mais itératif. C'est le résultat de dizaines d'années d'évolutions apportées par plein de personnes et de recherches précédentes.

Je développe des instruments optique, et je ne peux que confirmer que ce sont des monstres, et que tout les détails demandent une attention extrême pour parvenir à cette performance.
Générer la lumière à 13,5 nm n'est que l'une des difficultés. Pêle-mêle je dirais que la métrologie pour maintenir la focalisation parfaite sur le plan de projection (en dépit des effets thermoelastiques, par exemple). Les miroirs à ces longueurs d'onde là, sans même parler de la qualité, doivent avoir des revêtements adaptés à 13,5nm et c'est aussi un sujet pas évident. Le vieillissement, la stabilité, le découplage avec les vibrations (une voiture qui passe sur la route à proximité, on le "voit" dans ce genre de configuration). Bref, c'est très impressionnant !


Tous les commentaires (7)

J’ai regardé la vidéo.
Je me sens complètement idiot par rapport aux gens, pardon aux génies (à mon sens), qui imaginent ça

Il ne faut pas se sentir bête. Ce ne sont pas des génies qui imaginent. Ce sont des personnes brillantes, certes, mais il ne faut pas voir cette réalisation comme un processus unique, mais itératif. C'est le résultat de dizaines d'années d'évolutions apportées par plein de personnes et de recherches précédentes.

Je développe des instruments optique, et je ne peux que confirmer que ce sont des monstres, et que tout les détails demandent une attention extrême pour parvenir à cette performance.
Générer la lumière à 13,5 nm n'est que l'une des difficultés. Pêle-mêle je dirais que la métrologie pour maintenir la focalisation parfaite sur le plan de projection (en dépit des effets thermoelastiques, par exemple). Les miroirs à ces longueurs d'onde là, sans même parler de la qualité, doivent avoir des revêtements adaptés à 13,5nm et c'est aussi un sujet pas évident. Le vieillissement, la stabilité, le découplage avec les vibrations (une voiture qui passe sur la route à proximité, on le "voit" dans ce genre de configuration). Bref, c'est très impressionnant !

Donc seul ASML (Pays-Bas) est capable de fabriquer et vendre les machines permettant de graver des puces nanometriques à travers le monde ?

a écrit : Donc seul ASML (Pays-Bas) est capable de fabriquer et vendre les machines permettant de graver des puces nanometriques à travers le monde ? Ce sont les plus performants dans ce domaine. Pour graver à de telles finesse, ils sont sans concurrence.

a écrit : Donc seul ASML (Pays-Bas) est capable de fabriquer et vendre les machines permettant de graver des puces nanometriques à travers le monde ? De 2nm, oui.